horizontallpcvd型錄

生产型LPCVD设备.主要技术指标.该设备是在低压高温的条件下,通过化学反应.气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜.(主要是SigNgSiO及Poly硅薄膜)。类型.参数.可 ...,...型微加工技術...錄，此部分論述某一特殊.技術之第一層金屬的規.則...LPCVD)之反應器可以區分成熱牆及冷牆系統。熱牆系統.具有均勻的溫度分布以及使對流效應降低之 ...,Itprovidesaneasy-to-maintain,safeandreliablehorizontalfurnaceplatform.TheSVCSdesig...

參考資訊如下
1007 化学气相沉积

生产型LPCVD设备. 主要技术指标. 该设备是在低压高温的条件下,通过化学反应. 气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜. (主要是Sig Ng SiO及Poly硅薄膜)。 类型. 参数. 可 ...

微機電系統技術與應用(上)

... 型微加工技術 ... 錄，此部分論述某一特殊. 技術之第一層金屬的規. 則 ... LPCVD) 之反應器可以區分成熱牆及冷牆系統。熱牆系統. 具有均勻的溫度分布以及使對流效應降低之 ...

Horizontal LPCVD Furnace for High Process Performance

It provides an easy-to-maintain, safe and reliable horizontal furnace platform. The SVCS design is outstanding for high efficiency, minimised footprint and low ...

微機電系統技術與應用- 第二章

水平式LPCVD 系統與鍋爐類似，一個系統通常含有四根爐管，氣體是利用爐管背部之. 質量流控制器來控制及傳送至爐管的前端。氣體注入之方式視所執行之製程而定，氣體不. 是 ...

產品一覽表

簡易型排煙櫃 標準型排煙櫃. PP化學清洗櫃. →. 理化儀器 ... 桌上型擴散爐/水平式LPCVD 反應式離子蝕刻機/RIE 電 ... 請寄給我相關型錄 請派員到場解說 請與我電話聯絡.

TOPCon如何选择技术路线？LPCVDPECVD

LPCVD/PECVD 与双面p-PERC相比，基于LPCVD的TOPCon概念在n型硅衬底上显示出更高的电池生产成本，并且分布在所有相关的电池加工过程中：湿化学、扩散/退火、钝化和金属 ...

Horizontal LPCVD Furnace

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